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Par rapport aux techniques traditionnelles de revêtement de spin ou de revêtement,, le revêtement de masque de tranchée offre un dépôt de couches mince très uniforme sur de grandes zones, capable de manipuler les épaisseurs de film de quelques nanomètres à plusieurs microns, et est adaptable à une large gamme de types de solutions et de viscosités.
Principalement adapté au revêtement continu
S'adapter aux machines existantes
Compatible avec un revêtement à une seule couche
Changement de type en ligne , opération simple
Coureur d'autonomie , réduisant efficacement les anomalies locales au bord
Fonction de distribution indépendante
Plage du rapport de charge massique supérieur et inférieur: 1: 4 ~ 4: 1
Cov: 0,3%
Paramètre | Description |
Spécification de longueur | ≤ 200 mm |
Platitude | ≤3um |
Rectitude | ≤3um |
Rugosité du coureur | ≤ra0.025 |
Méthode de réglage | Tête différentielle + tige push-pull |
Veuillez nous demander plus de détails sur ce produit!
Par rapport aux techniques traditionnelles de revêtement de spin ou de revêtement,, le revêtement de masque de tranchée offre un dépôt de couches mince très uniforme sur de grandes zones, capable de manipuler les épaisseurs de film de quelques nanomètres à plusieurs microns, et est adaptable à une large gamme de types de solutions et de viscosités.
Principalement adapté au revêtement continu
S'adapter aux machines existantes
Compatible avec un revêtement à une seule couche
Changement de type en ligne , opération simple
Coureur d'autonomie , réduisant efficacement les anomalies locales au bord
Fonction de distribution indépendante
Plage du rapport de charge massique supérieur et inférieur: 1: 4 ~ 4: 1
Cov: 0,3%
Paramètre | Description |
Spécification de longueur | ≤ 200 mm |
Platitude | ≤3um |
Rectitude | ≤3um |
Rugosité du coureur | ≤ra0.025 |
Méthode de réglage | Tête différentielle + tige push-pull |
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